三和联

北京三和联，基于在真空、材料以及半导体设备方面的技术累计，可提供先进的材料刻蚀、材料生长与器件表面处理设备；主要产品包括反应离子刻蚀(RIE)，电感耦合反应离子刻蚀(ICP-RIE)，等离子体增强化学气相沉积(PECVD)，物理气相沉积(PVD)，等离子体表面处理(PlasmaTreatment)等，应用领域涉及硅基材料、化合物半导体材料、以及二维电子薄膜材料相关的应用。

更新时间：2023-11-01 直链：www.sanhelian.xyz